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真空氢气炉

来源： | 发布时间：2021-10-30 |

真空氢气炉设计原理

真空氢气炉主要用于金属及非金属材料的真空氢气还原，硬质合金、陶瓷、粉末冶金材料的真空／气氛高温烧结处理，软磁材料的真空氢气退火以及真空钎焊、真空高温回火等工艺。设备设计温度在1600℃以下（由客户提供）。
VHS系列单室真空气淬炉采用前开门装料型式，由真空炉体、炉胆、真空系统、氢气还原系统、快速充气系统（氮气）、风冷系统、温度和真空控制系统、加热电源、水冷系统和炉外装料车等部分组成。
优点：本设备糅合了国际前进技术，采用负压脉冲充氢气和恒压流动充氢气烧结的新方法，达到即节约气源又使材料充分还原提纯的目的，同时又使设备具有突出的安全性能。

真空氢气炉技术参数

最高炉温：1600℃          炉温均匀性：<±5℃，   极限真空度：10-1／10-4Pa可选
压升率： 0.65Pa／h，       炉胆：石墨／钼可选